静電気の帯電を制御するソリューション
半導体製造業界向け
半導体製造における静電気
静電荷は、主に異種材料の接触と分離により、半導体製造プロセス全体で発生します。
静電気は 3 つの方法で生産性と生産量に影響を与えます。静電気は空気から静電気的に (ESA) 粒子を引きつけ、ウェーハやメッシュに潜在的な歩留り損失を引き起こします。電圧の静電気放電 (ESD) は、グリッド、ウェーハ、またはパッケージ化されたチップに即時的または潜在的な欠陥を引き起こします。静電気の放電は、電磁障害 (EMI) を引き起こし、マイクロプロセッサーのロックアップやロボットの誤作動を引き起こし、製品の流れの中断や高価なツールのダウンタイムにつながる可能性もあります。
イオン化とプロセスの監視
空気イオン化は、空気中および作業表面上の静電気を帯びた粒子を中和することにより、クリーンルームと製品の完全性を維持します。当社のイオン化製品は、クリーンルームおよび EFEM イオン化を管理および自動化するデジタル システムから、極度の温度耐性を備えた狭いエリアに設置される、または空気や窒素の流れをイオン化するプロセス ガス パイプラインに組み込まれた特殊なイオナイザーまで多岐にわたります。当社の Novx 製品ラインは、閉ループ統合により当社のセンシング機能を補完し、イオナイザーのバランスを制御し、自動減衰テストを実行しながら生産環境を監視します。当社の経験豊富な世界規模のアプリケーション エンジニアリング チームは、イオン化の選択がお客様の特定のプロセス アプリケーションに最適化されていることを保証します。 シムコイオン は 30 年以上にわたり、革新的な半導体製造のイオン化およびモニタリング技術と製品のリーダーとして認められています。
プロセスのあらゆる段階での静電気保護
当社の静電制御ソリューションのポートフォリオは、ツーリングや室内環境の要件からテスト、組み立て、パッケージングの用途に至るまで、ウェーハ製造のあらゆる段階に対応します。
ウェーハ生産: ツール内
機器と EFEM の狭い環境内で、モデル 5225 Digital AeroBar® イオン化システムは、IonMonitor ソフトウェアを使用してイオン出力を調整、制御し、継続的な最適なパフォーマンスを実現します。最先端の AeroBar MP モデル 5635 は、10 nm 以上の粒子に関する ISO クラス 1 規格を満たしており、高度なウェハ技術で利用できる最もクリーンなイオン化を実現します。
静電気対策の基準
製造環境における静電気によるコストのかかる影響を制御するためのガイドラインとして、多くの規格が開発されています。イオン化は、これらの標準を実装する上で効果的かつ必要であることが証明されています。
