ラブトロン LMF-C33 アッシング炉
LMF-C33 アッシング炉モデルは、最適な断熱特性と基本的な制御オプションを備えた、効率的で正確かつ信頼性の高いマイクロプロセッサ制御の炉です。実験室の最小限のスペース要件を満たすように構築されたオーブンには、即時エネルギー消費インジケーター、平均作業温度の計算機、全体の作業時間カウンター、およびエラーの説明が装備されています。レンガに埋め込まれた発熱体、Fe-Cr-Al、低温外部温度用の二重ハウジング、K および S タイプの熱電対を備えた炉は、1200°C の最高連続使用温度に最適です。
次のようなアプリケーションに使用されます。
ガラスの溶解、エナメル、セラミックの作成、はんだ付け、ろう付け、ゴムおよびポリマー。また、冶金用途や灰分含有量の測定、研究センターや医療研究所でのサンプルの揮発性と不燃性の比率の測定にも使用されます。
マッフル炉LMF-C33型 は、最適な断熱特性と基本的な制御オプションを備えた、効率的で正確かつ信頼性の高いマイクロプロセッサー制御の炉です。
実験室でのスペース要件を最小限に抑えるように設計されており、瞬間エネルギー消費インジケータ、平均作業温度の計算機、総作業時間カウンタ、および説明的なエラーインジケータが装備されています。発熱体を使用すると、 鉄-クロム-アルミニウム レンガに埋め込まれ、低い外部温度を実現する二重シェルハウジングと K および S タイプの熱電対により、最高および連続使用温度に最適です。 1200℃。
次のようなアプリケーションに使用されます。
ガラスの溶融、エナメルコーティングの作成、セラミック、はんだ付け、ろう付け、ゴムおよびポリマー。また、冶金用途、灰分測定、研究センターや医療研究所でサンプルの揮発性および不燃性の割合を測定するために使用されます。
メンテナンスと校正:
► 校正証明書も添付しております(オプション)
► 一定期間ご使用後は、弊社購入店にて再校正を行ってください。
配布元:
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